.国内微芯片光刻机主要生产商宣布ASML&mdash全套成功；先进的ARF光刻机即将投入使用。

据葛克伟介绍，目前，葛克伟洁净室已按计划分阶段顺利验收，相关工厂维修系统的配置工作进展顺利。共有61台设备被搬入。在未来，外延、蚀刻、薄膜、清洗和其他相关设备将继续进入。

葛克伟表示，成功引进ARF光刻机的是葛克伟；12英寸CIS集成电路特色工艺研发及产业化项目&rdquo；施工的关键节点。

依托本厂先进的制造工艺，Geke micro将进一步加快先进CIS工艺和高阶专利像素的研发速度，并在本厂实现批量生产验证，从而大大缩短从研发到高端产品大量投放市场的周期。

项目总投资约155亿元，建设一座月产量6万片的12英寸芯片厂和一条12英寸晶圆CMOS图像传感器芯片专用工艺生产线。预计到今年年底将实现大规模生产。